Centret kommer att ta fram avancerad teknik för tillverkning av halvledare. Anläggningen kommer att byggas inom tre till fem år och kommer att ha utrustning för EUV, extrem ultraviolett litografi.
Tanken är att materialtillverkare och andra kan betala en avgift för att få använda anläggningen för att utveckla prototyper och tester. Detta blir den första anläggningen i Japan där flera delar av industrin gemensamt kan använda EUV-utrustning.
BREAKING